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2013年2月14日(木) 知的財産セミナー『特許情報を活用した日米技術動向分析』


2013年01月17日

 弊社は2013年2月14日(木)に、知的財産セミナー 『特許情報を活用した日米技術動向分析』を開催いたします。特許情報には、企業の研究開発成果が凝縮されており、この公知情報を活用することで、注目する技術分野のトレンドを読み解くことができます。

 本セミナーでは、「特許情報を活用した日米技術動向分析」について、 基本的な考え方や、具体的な分析手法を分かりやすくご説明いたします。

<特許分析 事例紹介>

特許分析によって、例えば以下のようなことが分かります!!
 <1>注力領域の変遷を競合と比較(事例:ナノインプリント技術)
 <2>競合との海外出願状況比較(事例:拡張現実(AR)/複合現実(MR)技術)
 <3>引用情報から見た周辺企業への影響度(事例:3次元プリンタ技術)

これらは事例のごく一部ですが、本セミナーでは、できるだけ具体的に
特許分析によってどのようなことが分かるかをご説明いたします。


 セミナー終了後には、Biz Cruncherの操作体験の場もご用意しておりますので、この機会に是非ご参加ください。


【セミナー詳細】

  日  程 : 平成25年2月14日(木) 
  時  間 : 14:00~17:00
  会  場 : 富士ソフト アキバプラザ 6階
  参加費 : 無料
  定  員 : 30名

「セミナーパンフレット(PDF)」



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