【ナノインプリント】特許総合力トップ3は東芝、Molecular Imprints（米）、キヤノン

　弊社はこのほど、日本に出願されたナノインプリント関連技術について、参入企業に関する調査結果をまとめました。

　ナノインプリントとは、モールド（スタンパー、テンプレート）を樹脂に押しつけ、モールド上に形成されたパターンを樹脂に転写する技術で、1995年に米・プリンストン大学のChou教授により発明されました。微細加工に適しており、半導体リソグラフィ、光デバイス、記録メディア、MEMS技術等への応用が検討されており、既存の微細加工技術と比べ、コスト低減が期待できるという特徴があります。本調査ではナノインプリント技術関連の特許を集計し、各個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」をベースとして、特許の質と量から総合的に見た評価を行いました。

　その結果、「総合力ランキング（※）」では、1位 東芝、2位 米・Molecular Imprints、3位 キヤノンとなりました（下表、図1）。

　【ナノインプリント関連技術　特許総合力トップ5】

【図1】ナノインプリント分野　競合状況

　ナノインプリント装置メーカーで他社をリードする米・Molecular Imprintsが日本においても非常に総合力が高くなっています。さらには半導体露光装置メーカー3社中、キヤノンとASMLの2社が上位に入っていることも特徴的です。

　ナノインプリント技術は2003年にITRS（国際半導体技術ロードマップ）の32nmノード以降のリソグラフィ技術の候補として採用され、関心が急速に高まりましたが、ニュースとしての関心は徐々に落ち着いてきている様子がGoogle Trendsでも見てとれます。

　ところが、特許出願状況は年々増加している状況であり、世間の関心とは逆に開発が非常に活発化していることが伺えます（図2）。この増加の要因としては、特に東芝と富士フイルムが大きく影響していることが分かります（図3、2010年以降の出願は全て公開されていないため、暫定の件数）。

【図2】ナノインプリント　件数推移（内訳ステータス）

【図3】ナノインプリント　件数推移（内訳企業）

　総合力上位5社について特許庁テーマコード分類を用いて技術動向を見ると、東芝、富士フイルムは当初磁気記録媒体、特にDTM、BPMの製造プロセスとしてのナノインプリント（テーマコード5D006、5D074、5D112）が主流でしたが（図4）、それらは減少傾向にあることが分かります。逆に、半導体露光用途（5F146）の増加が目立ちます（図5）。また富士フイルムは樹脂（レジスト）材料（4J100、2H125）に関する公報の増加も見てとれます（図6）。

【図4】ナノインプリント　企業別　注力分野の推移

　本分析の詳細については、定型レポート「ナノインプリント関連技術」にてご覧いただけます。

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