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【ナノインプリント】特許総合力トップ3は東芝、Molecular Imprints（米）、キヤノン

　弊社はこのほど、日本に出願されたナノインプリント関連技術について、参入企業に関する調査結果をまとめました。

　ナノインプリントとは、モールド（スタンパー、テンプレート）を樹脂に押しつけ、モールド上に形成されたパターンを樹脂に転写する技術で、1995年に米・プリンストン大学のChou教授により発明されました。微細加工に適しており、半導体リソグラフィ、光デバイス、記録メディア、MEMS技術等への応用が検討されており、既存の微細加工技術と比べ、コスト低減が期待できるという特徴があります。本調査ではナノインプリント技術関連の特許を集計し、各個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」をベースとして、特許の質と量から総合的に見た評価を行いました。

　その結果、「総合力ランキング（※）」では、1位 東芝、2位 米・Molecular Imprints、3位 キヤノンとなりました（下表、図1）。

　【ナノインプリント関連技術　特許総合力トップ5】

順位	企業名	総合力 （権利者 スコア）	有効 特許 件数	個別力 （最高 スコア）
1	東芝	1934.0	340	82.1
2	MOLECULAR IMPRINTS	799.7	77	81.2
3	キヤノン	497.5	180	83.7
4	ASML NETHERLANDS	489.7	77	70.1
5	富士フイルム	482.2	265	65.1

【図1】ナノインプリント分野　競合状況

　ナノインプリント装置メーカーで他社をリードする米・Molecular Imprintsが日本においても非常に総合力が高くなっています。さらには半導体露光装置メーカー3社中、キヤノンとASMLの2社が上位に入っていることも特徴的です。

　ナノインプリント技術は2003年にITRS（国際半導体技術ロードマップ）の32nmノード以降のリソグラフィ技術の候補として採用され、関心が急速に高まりましたが、ニュースとしての関心は徐々に落ち着いてきている様子がGoogle Trendsでも見てとれます。

　ところが、特許出願状況は年々増加している状況であり、世間の関心とは逆に開発が非常に活発化していることが伺えます（図2）。この増加の要因としては、特に東芝と富士フイルムが大きく影響していることが分かります（図3、2010年以降の出願は全て公開されていないため、暫定の件数）。

【図2】ナノインプリント　件数推移（内訳ステータス）


【図3】ナノインプリント　件数推移（内訳企業）

　総合力上位5社について特許庁テーマコード分類を用いて技術動向を見ると、東芝、富士フイルムは当初磁気記録媒体、特にDTM、BPMの製造プロセスとしてのナノインプリント（テーマコード5D006、5D074、5D112）が主流でしたが（図4）、それらは減少傾向にあることが分かります。逆に、半導体露光用途（5F146）の増加が目立ちます（図5）。また富士フイルムは樹脂（レジスト）材料（4J100、2H125）に関する公報の増加も見てとれます（図6）。

【図4】ナノインプリント　企業別　注力分野の推移

　本分析の詳細については、特許・技術調査レポート「ナノインプリント関連技術」にてご覧いただけます。

　

（※）総合力の評価では、個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」を機関ごとに集計し、パテントスコアが50点以上のものを合算しています。50点以上のものだけを集計している理由は、パテントスコアが低くても特許件数が多いことによって総合力が上がってしまうことを防ぐためです。

参入企業の技術力と成長性を取りまとめたレポートです。

【価格】 ※個別企業分析の対象企業は、特許総合力上位企業または任意にご指定可能。

　

（注）レポートは弊社データベースにおける最新の収録範囲に基づき作成いたします。
そのため、ご発注のタイミングによっては上記ランキングと順位、値が異なる可能性があります。

【納品形態】
レポートのPDF、公報リストを収録したエクセルファイルをメールで御納品。
レポート冊子やデータ一式を収録したCD-Rでの御納品をご希望の場合にはご相談ください。

パテントスコアを用いた総合力評価や出願件数などに基づく各種ランキングデータのご提供です。

【収録データ】 　　・特許総合力ランキング_上位30社リスト 　　・有効特許件数ランキング_上位30社リスト 　　・開発規模（出願件数）ランキング_上位30社リスト 　　・競合状況分析マップ (権利者スコアマップ) 　　・母集団の公報リスト

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【納品形態】
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