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有機EL 成膜技術(ウェットプロセス) 特許総合力ランキング 直近5年間ではコニカミノルタHDが大躍進


2012年02月07日

 有機ELディスプレイは、液晶に代わる次世代ディスプレイとして有望視されており、近年、スマートフォンを筆頭にタブレット端末、デジカメなどに採用され、急速に普及し始めています。スマートフォン等に利用されている有機ELディスプレイの成膜では主に低分子の発光材料を用いた、真空蒸着に代表されるドライプロセスを採用していますが、この方式を大型ディスプレイに用いることは、製造上の問題から困難であるとされています。

 一方、ウェットプロセスは、ドライプロセスと比べてパネルサイズの大型化が可能であり、生産性も高い技術であると期待されています。

 そこで弊社は、有機ELの成膜技術のうち、ウェットプロセスが関連する技術に注目し、参入企業の競争力に関する調査を行いました。1993年から2011年12月末までに日本の特許庁で公開された関連特許5,837件を対象に、個別特許スコアリング指標「パテントスコア」による評価を、現在、2006年末の2つの時点で実施し、各時点での特許の質と量から総合的に見た「特許総合力ランキング(※)」を集計しました。

 集計の結果、1位 セイコーエプソン、2位 半導体エネルギー研究所、3位 コニカミノルタHDとなりました。

 1位のセイコーエプソンは、出願件数、総合力ともに圧倒的な強さを見せています。同社は2002年から2005年の期間に件数を伸ばしました。

 また、直近5年間の特許総合力ランキングの変化では、コニカミノルタHDが30 → 3位、パナソニックが15 → 4位と、大きく順位を上げる結果となりました。


   【有機EL 成膜技術(ウェットプロセス) 特許総合力トップ5】

順位 企業名 総合力
(権利者スコア)
開発規模
(出願件数)
  現 在   2006年末   現 在   2006年末   現 在   2006年末
1
1
セイコーエプソン3,670.7 pt3,577.3 pt1,459939
2
2
半導体エネルギー研究所774.3 pt413.9 pt176126
3
30
コニカミノルタHD633.0 pt44.2 pt23939
4
15
パナソニック630.7 pt116.4 pt21389
5
3
富士フイルム613.9 pt349.4 pt213124


有機EL 成膜技術(ウェットプロセス)

図1:有機EL 成膜技術(ウェットプロセス) 競合状況


  ※総合力上位5社について現在と2006年の競合状況を比較。社名が記載されているバブルが現在のポジション。


 本分析の詳細については、特許・技術調査レポート「有機EL 成膜技術(ウェットプロセス)」にてご覧いただけます。

 

(※)総合力の評価では、個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」を機関ごとに集計し、パテントスコアが50点以上のものを合算しています。50点以上のものだけを集計している理由は、パテントスコアが低くても特許件数が多いことによって総合力が上がってしまうことを防ぐためです。


【調査対象の特許群について】 1993年から2011年12月末までに公開された特許公報が対象。公開、登録、公表、再公表のすべてが対象で、登録と、公開・公表・再公表が重複している場合は、登録を優先。企業等の集計単位は権利者ベースとしています。


特許・技術調査レポート 『有機EL 成膜技術(ウェットプロセス)』

参入企業の技術力と成長性を弊社アナリストが分かりやすく解説したレポートです。

【価格】
※個別企業分析の対象企業は、特許総合力上位企業または任意にご指定可能。


 

(注)レポートは弊社データベースにおける最新の収録範囲に基づき作成いたします。
そのため、ご発注のタイミングによっては上記ランキングと順位、値が異なる可能性があります。


【納品形態】
冊子1冊。CD-ROMにレポートのPDF、分析に使った特許公報リストCSVを収録。



特許総合力ランキングデータ 『有機EL 成膜技術(ウェットプロセス)』

パテントスコアを用いた総合力評価や出願件数などに基づく各種ランキングデータのご提供です。

【収録データ】
  ・特許総合力ランキング_上位30社リスト
  ・有効特許件数ランキング_上位30社リスト
  ・開発規模(出願件数)ランキング_上位30社リスト
  ・競合状況分析マップ (権利者スコアマップ)
  ・母集団の公報リスト

サンプルデータはこちら(PDF)

 

【納品形態】
上記データを収録したCDで納品

【価格】
50,000円(税抜)


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