投稿日：2012年02月07日
【有機EL 成膜技術（ウェットプロセス）】特許総合力ランキング 直近5年間ではコニカミノルタHDが大躍進
#化学製品・材料 , #電子部品・電子機器・電子材料
有機ELディスプレイは、液晶に代わる次世代ディスプレイとして有望視されており、近年、スマートフォンを筆頭にタブレット端末、デジカメなどに採用され、急速に普及し始めています。スマートフォン等に利用されている有機ELディスプレイの成膜では主に低分子の発光材料を用いた、真空蒸着に代表されるドライプロセスを採用していますが、この方式を大型ディスプレイに用いることは、製造上の問題から困難であるとされています。
一方、ウェットプロセスは、ドライプロセスと比べてパネルサイズの大型化が可能であり、生産性も高い技術であると期待されています。
そこで弊社は、有機ELの成膜技術のうち、ウェットプロセスが関連する技術に注目し、参入企業の競争力に関する調査を行いました。1993年から2011年12月末までに日本の特許庁で公開された関連特許5,837件を対象に、個別特許スコアリング指標「パテントスコア」による評価を、現在、2006年末の２つの時点で実施し、各時点での特許の質と量から総合的に見た「特許総合力ランキング（※）」を集計しました。
集計の結果、1位 セイコーエプソン、2位 半導体エネルギー研究所、3位 コニカミノルタHDとなりました。
1位のセイコーエプソンは、出願件数、総合力ともに圧倒的な強さを見せています。同社は2002年から2005年の期間に件数を伸ばしました。
また、直近5年間の特許総合力ランキングの変化では、コニカミノルタHDが30 → 3位、パナソニックが15 → 4位と、大きく順位を上げる結果となりました。
【有機EL 成膜技術(ウェットプロセス) 特許総合力トップ5】
| 順位 | 企業名 | 総合力 （権利者スコア） |
開発規模 （出願件数） |
||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 現 在 | 2006年末 | 現 在 | 2006年末 | 現 在 | 2006年末 | ||
| セイコーエプソン | 3,670.7 pt | 3,577.3 pt | 1,459 | 939 | |||
| 半導体エネルギー研究所 | 774.3 pt | 413.9 pt | 176 | 126 | |||
| コニカミノルタHD | 633.0 pt | 44.2 pt | 239 | 39 | |||
| パナソニック | 630.7 pt | 116.4 pt | 213 | 89 | |||
| 富士フイルム | 613.9 pt | 349.4 pt | 213 | 124 | |||
図1：有機EL 成膜技術(ウェットプロセス) 競合状況
※総合力上位5社について現在と2006年の競合状況を比較。社名が記載されているバブルが現在のポジション。
本分析の詳細については、定型レポート「有機EL 成膜技術(ウェットプロセス)」にてご覧いただけます。
（※）総合力の評価では、個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」を機関ごとに集計し、パテントスコアが50点以上のものを合算しています。50点以上のものだけを集計している理由は、パテントスコアが低くても特許件数が多いことによって総合力が上がってしまうことを防ぐためです。
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定型レポート 『有機EL 成膜技術(ウェットプロセス)』
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【収録データ】
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・有効特許件数ランキング 上位30社リスト
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