大学・TLOにおいて「材料分析」分野における特許出願が急速に増加しています。そこで弊社は、大学・TLOを対象として「材料分析」分野の中でも「光学的分析」に関連する技術に着目し、各機関の競争力に関する調査を行いました（注１）。
1993年から2012年9月末までに日本の特許庁で公開された関連特許1,643件を対象に、個別特許の注目度を指数化する「パテントスコア」による評価を実施し、特許の質と量から総合的に見た「特許総合力ランキング（注２）」を集計しました。
集計の結果、1位 岡山大学、2位 東京工業大学、3位 大阪大学となりました。
【大学・TLO 光学的分析関連技術 特許総合力トップ5】
| 順位 | 機関名 | 総合力 （権利者スコア） |
有効特許 件数 |
個別力 （最高スコア） |
|---|---|---|---|---|
| 岡山大学 | 202.0 | 24 | 76.8 | |
| 東京工業大学 | 180.0 | 39 | 69.2 | |
| 大阪大学 | 158.6 | 37 | 70.9 | |
| 北海道大学 | 151.6 | 35 | 79.7 | |
| 九州大学 | 149.8 | 25 | 72.0 | |
1位 岡山大学の注目度の高い特許には、「テラヘルツ帯域のパルス光を測定試料に照射し、応答信号を検出して特性を測定する分光計測方法」に関する技術などが挙げられます。
2位 東京工業大学は「撮影環境によらず正確な反射スペクトルを測定することが可能なハイパースペクトル画像処理装置」などが、3位 大阪大学は「周波数レンジ、サンプリング時間、時間スケール拡大率を任意に設定できる高分解・高速テラヘルツ分光計測装置」などが注目度の高い特許として挙げられます。
本分析の詳細については、定型レポート『大学・TLO「材料分析：光学関連技術」』にてご覧いただけます。
（注1）【調査対象の特許群について】
特許庁の特許戦略ポータルサイトにおける定義などを参考に、独自に整備した分類体系を適用。
「光学的分析」に該当する分類が付与されている公報群を抽出した。
（注2）総合力の評価では、個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」を機関ごとに集計し、パテントスコアが50点以上のものを合算しています。50点以上のものだけを集計している理由は、パテントスコアが低くても特許件数が多いことによって総合力が上がってしまうことを防ぐためです。
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