弊社はこのほど、日本に出願されたCMP用研磨剤について、特許分析ツール「Biz Cruncher」を用いて参入企業に関する調査結果をまとめ、レポートの販売を開始しました。
CMP（化学機械研磨）は化学的作用を用いることで機械的研磨の効果を増大させる技術であることから、化学的作用を引き起こすもととなる研磨剤、研磨液はCMP技術において重要な要素となります。本調査ではCMP用研磨剤に関する特許を集計し、各個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」をベースとして、特許の質と量から総合的に見た評価を行いました。
その結果、「総合力ランキング（※1）」では、1位日立化成、2位CABOT MICROELECTRONICS、3位フジミインコーポレーテッドとなりました。
【CMP用研磨剤関連技術 特許総合力トップ5】（表1）
| 順位 | 企業名 | 総合力 (権利者スコア) |
有効特許件数 | 個別力 （最高スコア） |
|---|---|---|---|---|
| 日立化成 | 1858.2 | 215 | 84.5 | |
| CABOT MICROELECTRONICS | 1019.6 | 110 | 72.8 | |
| フジミインコーポレーテッド | 611.8 | 120 | 80.4 | |
| ＪＳＲ | 588.8 | 91 | 74.3 | |
| 東芝 | 272.9 | 64 | 71.6 |
図1：CMP用研磨剤関連技術 競合状況
総合力1位の日立化成は酸化セリウムを用いた研磨剤に関する特許、2位のCABOTはスラリー中のアルミナ粒子について詳しく規定した特許、3位のフジミインコーポレーテッドは金属不純物による汚染を防止することを目的とした研磨剤の組成に関する特許が高い注目度となっています。
図表2は特許分類の一つであるFタームを用い、研磨剤における砥粒以外の成分について、総合力上位5社における成分別の出願比率を集計したものです（※２）。
図2：総合力上位5社における成分別の出願比率
「酸化剤」、「溶媒」はどの企業も両分野に全出願の約20％に相当する出願が見られます。総合力1位の日立化成に着目すると、同社は他社の出願割合が非常に少ない「分散剤」への出願割合が高く、逆に他社が10%前後の出願を行っている「錯作成剤」への出願が少ないという特徴があります。また、金属溶解剤については日立化成及びフジミインコーポレーテッド、界面活性剤についてはJSR及び東芝の出願割合が高いということが分かります。
本分析の詳細については、定型レポート「CMP用研磨剤関連技術」にてご覧いただけます。
CMPシリーズとして、「CMP用研磨剤」に加え、「CMP関連技術」、「CMP用研磨パッド」に関する調査結果を発表しております。
（※１）総合力の評価では、個別特許の注目度を得点化する、「パテントスコア」を企業や研究機関ごとに集計し、パテントスコアが50点以上のものを合算しています。50点以上のものだけを集計している理由は、パテントスコアが低くても特許件数が多いことによって総合力が上がってしまうことを防ぐためです。
（※２）Fタームは通常1つの特許に複数付与されているため、本結果では重複集計しています。
ランキングデータの販売
定型レポート 『CMP用研磨剤関連技術』
参入企業の技術力と成長性を取りまとめたレポートです。
【収録データ】
・特許総合力ランキング_上位30社リスト
・有効特許件数ランキング_上位30社リスト
・開発規模（出願件数）ランキング_上位30社リスト
・競合状況分析マップ (権利者スコアマップ)
・母集団の公報リスト
サンプルデータはこちら
【納品形態】
上記データを収録したエクセルファイルをメールで御納品。
データ一式を収録したCD-Rでの御納品をご希望の場合にはご相談ください。
【価格】
50,000円（税抜）