弊社は2013年3月7日(木)に、知的財産セミナー 『特許情報を活用した日米技術動向分析』を開催いたします。特許情報には、企業の研究開発成果が凝縮されており、この公知情報を活用することで、注目する技術分野のトレンドを読み解くことができます。
本セミナーでは、日米間の特許情報を連携させた分析や、米国特許商標庁と欧州特許庁で導入された特許分類・CPCを活用した分析事例など、技術動向を分析するうえで役に立つ手法を分かりやすくご説明いたします。
特許分析によって、例えば以下のようなことが分かります!!
<1>注力領域の変遷を競合と比較(事例:ナノインプリント技術)
<2>競合との海外出願状況比較(事例:拡張現実(AR)/複合現実(MR)技術)
<3>引用情報から見た周辺企業への影響度(事例:3次元プリンタ技術)
これらは事例のごく一部ですが、本セミナーでは、できるだけ具体的に
特許分析によってどのようなことが分かるかをご説明いたします。
セミナー終了後には、Biz Cruncherの操作体験の場もご用意しておりますので、この機会に是非ご参加ください。
日 程 : 平成25年3月7日(木) 時 間 : 14:00~17:00 会 場 : 富士ソフト アキバプラザ 6階 参加費 : 無料 定 員 : 30名 「セミナーパンフレット(PDF)」 |
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